1.新型雙面拋光機(jī)傳動結(jié)構(gòu)設(shè)計
為實現(xiàn)新型雙面拋光機(jī)各部分運動，可以采用所示結(jié)構(gòu)。上拋光盤7旋轉(zhuǎn)或固定，下拋光盤3由電機(jī)17通過皮帶、齒輪機(jī)構(gòu)18、軸套23、下底板3帶動作旋轉(zhuǎn)運動;控制裝置控制內(nèi)外運行裝置作等距離圓平動及公轉(zhuǎn)運動，各工件載體由內(nèi)外運行裝置帶動作相同運動�？刂蒲b置分為2部分，第1部分控制外運行裝置作圓平動(擺動)，伺服電機(jī)19通過齒輪傳動機(jī)構(gòu)20馭動齒輪21.各外運動裝置22與各齒輪21固連，帶動多個外運動裝ff的轉(zhuǎn)盤運轉(zhuǎn).使裝在轉(zhuǎn)盤上的外偏心臂同向同速旋轉(zhuǎn);伺服電機(jī)13通過齒輪傳動機(jī)構(gòu)12軸套24及齒輪25驅(qū)動齒輪6.各內(nèi)運動裝置與各齒輪6固連.帶動多個內(nèi)運動裝置的轉(zhuǎn)盤運轉(zhuǎn).使裝在轉(zhuǎn)盤上的內(nèi)偏心臂同向同速旋轉(zhuǎn)(或擺動)。

2.新型雙面拋光機(jī)運動分析
各載體運動相同，以單個載體的運動進(jìn)行分析。坐標(biāo)系下，若偏心臂以恒定角速度。勻速轉(zhuǎn)動，xoy是固定坐標(biāo)系.其原點位于內(nèi)外轉(zhuǎn)盤中心線的中點o.x,o,y為原點位于載體中心o’的動坐標(biāo)系，隨載體一起作平動.動坐標(biāo)系xoy內(nèi)一坐標(biāo)為(x,y)的定點在靜坐標(biāo)系.xoy內(nèi)對應(yīng)的點為(x,y).則有（公式略）

3.結(jié)語
該新型雙面拋光機(jī)具有圓平動(或擺動)方式下恒速變向拋光的優(yōu)點.且能把拋光壓力均勻壓在載體內(nèi)的工件上，體積小，結(jié)構(gòu)緊湊。具有較為理想的拋光軌跡形態(tài)以及恰當(dāng)?shù)?strong>拋光機(jī)的拋光軌跡密度分布，可以有效減少工件的畸變、減小拋光盤的磨損變形、減少拋光盤修整次數(shù)。提高工件的加工效率和加工精度.降低工件表面的粗糙度，為硅晶片獲得納米級加工精度的超光滑加工表面創(chuàng)造了有利條件。